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摻雜氣體應(yīng)用

東莞市建盟化學(xué)有限公司提供世界知名品牌摻雜氣體應(yīng)用工藝技術(shù)。摻雜氣體應(yīng)用包括在半導(dǎo)體器件和集成電路制造中,將某種或某些雜質(zhì)摻入半導(dǎo)體材料內(nèi),以使材料具有所需要的導(dǎo)電類型和一定的電阻率,用來制造PN結(jié),電阻,埋層等。摻雜工藝所用的氣體摻雜源被稱為摻雜氣體。主要包括砷烷,磷烷,三氟化磷,五氟化磷,三氟化砷,五氟化砷,三氯化硼和乙硼烷等。通常將摻雜源與運(yùn)載氣體(如氬氣和氮?dú)?在源柜中混合,混合后氣流連續(xù)流入擴(kuò)散爐內(nèi)環(huán)繞晶片四周,在晶片表面沉積上化合物摻雜劑,進(jìn)而與硅反應(yīng)生成摻雜金屬而徙動進(jìn)入硅。

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