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剝離劑和蝕刻劑

剝離劑和蝕刻劑

剝離劑和蝕刻劑可高效的對陶瓷,絕緣層,半導體和多種金屬底層上的氧化錫/銦氧化錫沉淀膜進行蝕刻,具有邊界清晰,蝕刻速度可控的特性,與正負性光刻膠良好兼容。

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產品詳情


剝離劑和蝕刻劑工藝應用參數

型號

Potosil?S50

Alusil?G30

Alusil?L50

用途

主要的成分

有機溶劑+添加劑

碘化鉀

H2O2 + 有機酸

外觀

透明,略帶黃色

棕色液體

清除

粘度(cps  20℃)

 3

< 2

 1.1

比重(

20)

 

1.10 ± 0.05

1.10 ± 0.05

1.0 ± 0.1

pH ( 20℃)

-

< 5

< 2

保質期

12月

12月

6月

用途

光刻膠剝離劑

Au 蝕刻劑

Cu 蝕刻劑


下載資料
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